GL4 R&D纳米压印机

纳米压印光刻设备基本配置  

设备机台包括机械电气部分185V－260V，50/60Hz

兼容高精度辊压功能和MLA面压功能模版基底压印系统，精密真空控制系统压印过程中实现全自动压印和脱模过程，无需手动脱模，可压印大至100毫米圆形基底

纳米压印功能模版复制功能  

触摸屏控制，压印参数可调压印设备所需选项：

紫外曝光系统基底加热系统

100mm基底托盘纳米压印模版夹具LED紫外曝光系统 365nmLED紫外曝光固化系统

光源冷却方式：风冷

曝光面积大于4英寸

最大光强300mW／cm2（强度可调）

基底托盘加热系统

软件控温，加热温度室温至70°C

温度均匀性：±3%

温度设置精度：±1°C

被动冷却系统100mm基底托盘 兼容100mm，50mm圆形基底基底厚度0.2毫米至3毫米，真空基底吸附，真空区域可在软件中纳米压印模版夹具，适用于100毫米直径以下模版，自动模板基底分离（脱模）功能。

GL4 R&D 纳米压印设备是专为大学、科研院所和企业产品研发而设计的接触式图形转移设备，功能十分强大。其能够通过简便的夹具更换，迅速在旋涂压印胶高精度纳米结构压印和点胶大矢高结构自动找平压印模式之间进行切换。它可以在直径 150mm 以下基底面积上实现高精度（优于 10nm*）、高深宽比（优于 10 比 1*）以及微透镜阵列等微纳结构的压印，非常适合用于紫外纳米压印光刻工艺开发、器件原型快速验证以及纳米压印材料测试等研发工作。该设备沿用了天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，在 GL4 R&D 上开发的工艺能够毫无阻碍地转移到量产设备上进行生产。此外，GL4   R&D 接触式图形转移设备还适用于 DOE、AR/VR   衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列、匀光片等诸多应用领域的研发。